上海添時科學(xué)儀器有限公司

PRODUCT DISPLAY

當(dāng)前位置:上海添時科學(xué)儀器有限公司>>CVD氣相沉積>>高真空CVD系統(tǒng)>> CVD氣相沉積

CVD氣相沉積

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號:

品       牌:

廠商性質(zhì):代理商

所  在  地:上海市

收藏
舉報 評價

更新時間:2024-12-04 13:36:19瀏覽次數(shù):1166次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏設(shè)備、涂層和材料科學(xué)等領(lǐng)域。
    CVD(ChemicalVaporDeposition,化學(xué)氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術(shù)。它通過將氣態(tài)化學(xué)前驅(qū)體反應(yīng)成固態(tài)沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏設(shè)備、涂層和材料科學(xué)等領(lǐng)域。

    殼體:

    1、內(nèi)爐膛表面涂有美國進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率,同時也可以延長儀器的使用壽命

    2、保溫材料采用高純氧化鋁纖維,環(huán)保節(jié)能,減少熱量的損失

    3、真空泵和氣體混合系統(tǒng)位于移動架上,方便移動.

    4、儀器上已經(jīng)安裝高真空法蘭,閥門,高真空機(jī)組。

    CVD化學(xué)氣相沉積技術(shù)具有以下幾個主要特點(diǎn):

    1、CVD可以在不同的基材表面沉積高純度的薄膜,且厚度均勻,適用于精細(xì)的電子器件和高質(zhì)量涂層。

    2、通過化學(xué)反應(yīng)生成的薄膜通常與基材具有良好的附著力,這使得薄膜在使用過程中不易剝落。

    3、CVD技術(shù)能夠在復(fù)雜形狀的基材上形成均勻的涂層,包括在深孔和狹縫中,這對制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件特別重要。

    4、CVD適用于沉積各種材料,如金屬、氧化物、氮化物、硅化物等,能夠滿足不同應(yīng)用需求。

    5、通過調(diào)節(jié)氣體流量、溫度、壓力和反應(yīng)時間,可以精確控制薄膜的厚度和成分,從而實(shí)現(xiàn)不同的材料特性。

    6、CVD過程通常在高溫下進(jìn)行,這使得其適合于制備需要高溫處理的材料,如陶瓷和硬質(zhì)涂層。

    7、CVD能在基材表面形成非常平滑的薄膜,適用于需要高表面質(zhì)量的應(yīng)用,如光學(xué)薄膜和半導(dǎo)體器件。

    8、CVD技術(shù)有多種變體,如低壓CVD(LPCVD)、高壓CVD(HPCVD)、等離子體增強(qiáng)CVD(PECVD)等,可以根據(jù)具體需求選擇合適的工藝。

同類優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品

CVD氣相沉積

型號: 參考價: ¥面議
熱門推薦

1700°C二通道混

型號:GSL-1700X-HVC 參考價: ¥面議
熱門推薦

會員登錄

×

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗(yàn)證碼

收藏該商鋪

X
該信息已收藏!
標(biāo)簽:
保存成功

(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)

常用:

提示

X
您的留言已提交成功!我們將在第一時間回復(fù)您~
撥打電話 產(chǎn)品分類
在線留言